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技術(shù)文(wen)章上海騰拔質(zhì)構(gòu)(gou)儀助力(li)長(zhǎng)安大(da)學(xué)研究人員在(zai)高分子科學(xué)期(qi)刊發(fā)表(biao)論文
更新(xin)時(shí)間：2025-10-14
點(diǎn)擊次數(shù)：2183
? ? 高分子科(ke)學(xué)期刊《Polymer Bulletin》（IF=2.014)在線(xiàn)(xian)發(fā)表了長(zhǎng)(zhang)安大(da)學(xué)環(huán)(huan)境科學(xué)與(yu)工程學(xué)院(yuan)研究團(tuán)隊(duì)題(ti)為“Fabrication of a photoelectric?sensitive imprinting polymer by PPy?cross?linked Gel/CS complex and its comprehensive treatment of Cr(VI)”的研究論(lun)文。
? ? 在該(gai)研究論文(wen)中，研究人(ren)員利用上海(hai)騰拔Universal TA研(yan)究型質(zhì)(zhi)構(gòu)儀用(yong)于測(cè)(ce)定印跡聚合物(wu)的機(jī)械(xie)強(qiáng)度。
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